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Rivoluzione nel Microchip: Alla Fudan University Nasce il Flash Ibrido 2D/Silicio per Memorie Ultra-Veloci

  • Immagine del redattore: 3DMultisystem
    3DMultisystem
  • 21 ott 2025
  • Tempo di lettura: 2 min

Dalla Fudan University di Shanghai arriva una svolta che promette di ridefinire il futuro dello storage digitale: la presentazione del primo chip flash completamente ibrido, frutto dell'integrazione pionieristica tra materiali bidimensionali (2D) e la consolidata tecnologia al silicio. Questa sinergia, pubblicata sulla prestigiosa rivista Nature, fonde l'eccezionale rapidità dei materiali 2D con l'affidabilità e la stabilità del tradizionale standard CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor), il pilastro dell'elettronica commerciale.

Il prototipo non è solo un esperimento di laboratorio, ma una memoria ad altissime prestazioni, capace di gestire operazioni a otto bit e calcoli paralleli a 32 bit con accesso casuale. Il suo rendimento ha toccato un impressionante 94,3% di celle di memoria funzionanti, un risultato considerato un traguardo eccezionale nel settore. Ma il vero punto di forza è la velocità: il chip supera le performance delle attuali memorie flash, spianando la strada a sistemi di calcolo notevolmente più rapidi ed efficienti dal punto di vista energetico, un requisito sine qua non nell'era dell'Intelligenza Artificiale (AI) e dei big data.

L'innovazione è nata da una visione audace: connettere materiali sottilissimi (spessi pochi atomi) con i circuiti in silicio. I ricercatori, guidati da Liu Chunsen e Zhou Peng, hanno dovuto superare una sfida ingegneristica non indifferente: le diverse proprietà fisiche dei due materiali. Come spiegato da Zhou, "Stendere un film 2D su un circuito in silicio è come tentare di coprire Shanghai con una pellicola: la superficie non è piatta come sembra". I materiali 2D, infatti, esigono una planarità quasi perfetta per condurre l'elettricità in modo ottimale.

Per superare questo ostacolo, il team ha adottato una strategia modulare: i materiali 2D sono stati depositati su substrati CMOS e poi interconnessi tramite un sistema monolitico ad alta densità. Questa soluzione ha garantito un accoppiamento stabile e una comunicazione elettronica ultra-veloce tra i due "mondi" tecnologici.

Non è la prima volta che il gruppo di Fudan si distingue nel campo: ad aprile avevano già presentato un prototipo, il PoX 2D Flash, con un tempo di programmazione record di soli 400 picosecondi. Tuttavia, l'attuale realizzazione è un passo avanti cruciale: è una piattaforma compatibile con la produzione industriale su larga scala.

L'ambizione è di portare la tecnologia a una linea pilota in un arco di tempo relativamente breve, tre-cinque anni, partendo da memorie di pochi megabyte. "Abbiamo accelerato un processo di sviluppo che di solito richiede decenni," ha affermato Liu. Questa integrazione diretta con i circuiti CMOS standard è la chiave per l'industrializzazione rapida.

Secondo Zhou, i dispositivi di memoria saranno i primi a sfruttare i benefici della nuova architettura. I vantaggi in termini di efficienza energetica e miniaturizzazione sono destinati a permeare rapidamente l'intero settore dei semiconduttori, offrendo nuove opportunità, in particolare per i sistemi di AI, dove la velocità di accesso ai dati è sempre più un fattore limitante.

 
 
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